環球動態 | 中國自主研發浸沒式DUV光刻機，突破晶片製造關鍵技術

　　據The Information周一(27日)報道，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光(DUV)光刻機，此項關鍵晶片製造設備長期由荷蘭ASML(US.ASML)主導。

 

　　消息人士透露，這批國產光刻機預計今年內將交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要晶片製造商。目前ASML拒絕就事件置評。

 

　　雖然此次突破有望挑戰ASML在中國市場地位，但消息人士強調國產設備在性能與穩定性方面仍落後，需進一步測試才能大規模量產。初步規劃顯示，今年僅生產約5台DUV光刻機，2027年產量將增至20台。

 

　　浸沒式DUV光刻機現時是中國晶片商能獲取的最先進設備，因美國出口管制已切斷極紫外光(EUV)系統供應。報道同時披露中國正研發國產EUV光刻機，目前仍處於原型機階段。此技術突破將為中國晶片業提供關鍵設備替代來源，以應對美國可能收緊的外國光刻機出口及在華服務限制。

《經濟通通訊社28日專訊》