24,231.37
+734.48
(+3.13%)
24,226
+752
(+3.20%)
低水5
8,084.42
+314.16
(+4.04%)
4,740.66
+233.62
(+5.18%)
2,517.10億
3,995.51
+5.27
(+0.132%)
4,794.57
+2.31
(+0.048%)
15,093.41
-131.70
(-0.865%)
2,800.29
+20.09
(+0.72%)
62,644.7000
-719.3000
(-1.135%)
Radware Ltd
  • 30.490
  • +0.170
  • (+0.561%)
  • 最高
  • 31.040
  • 最低
  • 30.035
  • 成交股數
  • 16.54萬
  • 成交金額
  • 4.81百萬
  • 前收市
  • 30.320
  • 開市
  • 30.720
  • 盤後
  • 30.500
  • 0.010
  • (+0.033%)
  • 最高
  • 30.500
  • 最低
  • 30.490
  • 成交股數
  • 1,824.00
  • 成交金額
  • 6.78萬
  • 買入
  • 30.500
  • 賣出
  • 34.950
  • 市值
  • 12.49億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 3330
  • 每宗成交金額
  • 1,445
  • 波幅
  • 7.211%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 68.91/27.75
  • 周息率/預期
  • --/--
  • 10日股價變動
  • 3.672%
  • 風險率
  • 2.061
  • 振幅率
  • 4.729%
  • 啤打系數
  • 0.557

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 07/07/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

30/06/2026 21:22

美股動向 | 應材推全新3D晶片製造設備

  《經濟通通訊社30日專訊》全球半導體設備企業應用材料(US.AMAT)推出專為人工智能半導體量身打造的3D晶片製造設備產品線,進軍高頻寬記憶體、小晶片及混合鍵合等先進封裝市場。

 

  在技術層面,應材此次發布的設備矩陣專注於解決先進封裝製程中的核心問題,涵蓋平坦化、沉積與計量檢測三大關鍵環節。本次公開的全新設備包括應用於封裝領域的先進化學機械研磨、電化學沉積,以及電漿增強化學氣相沉積系統。為進一步提升良率,公司更引進了基於電子束的製程控制設備,並全面升級其動態隨機存取記憶體製程專用的磊晶設備。(kk)

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