25,585.39
-313.37
(-1.21%)
25,581
-239
(-0.93%)
低水4
8,640.78
-63.74
(-0.73%)
4,996.40
-58.45
(-1.16%)
1,174.82億
4,113.90
-19.53
(-0.472%)
4,665.46
-39.04
(-0.830%)
14,293.33
-172.08
(-1.190%)
2,601.11
-27.19
(-1.03%)
69,476.7200
-715.1400
(-1.019%)
NVE Corp
  • 69.990
  • +1.825
  • (+2.677%)
  • 最高
  • 70.720
  • 最低
  • 67.470
  • 成交股數
  • 3.01萬
  • 成交金額
  • 1.87百萬
  • 前收市
  • 68.165
  • 開市
  • 67.470
  • 盤後
  • 69.990
  • 0.000
  • (0.000%)
  • 最高
  • 69.990
  • 最低
  • 69.990
  • 成交股數
  • 579.00
  • 成交金額
  • 4.04萬
  • 買入
  • 65.110
  • 賣出
  • 79.670
  • 市值
  • 3.31億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 1123
  • 每宗成交金額
  • 1,663
  • 波幅
  • 6.574%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 23.46/25.98
  • 周息率/預期
  • 5.84%/5.88%
  • 10日股價變動
  • 1.671%
  • 風險率
  • 5.319
  • 振幅率
  • 5.380%
  • 啤打系數
  • 1.056

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 11/03/2026 19:59:51
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

12/03/2026 00:22

美股動向 | 應用材料續漲,與美光及SK海力士研發新一代AI記憶體晶片

  《經濟通通訊社12日專訊》應用材料(US.AMAT)繼周二(10日)收盤上漲逾2%後,周三(11日)美股盤前持續走高,漲幅逾1%。

 

  消息面上,應用材料宣布與全球記憶體晶片巨企美光(US.MU)及SK海力士(US.HXSCL)達成戰略合作,共同開發對人工智能與高效能運算(HPC)至關重要的新一代記憶體晶片。該研發基地設於美國矽谷,旨在讓記憶體製造商的工程師與設備開發人員進行深度聯合研究。(kk)

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