23,902.78
+405.89
(+1.73%)
23,884
+410
(+1.75%)
低水19
7,951.51
+181.25
(+2.33%)
4,594.78
+87.74
(+1.95%)
899.85億
3,975.97
-14.27
(-0.358%)
4,761.16
-31.10
(-0.649%)
14,967.69
-257.42
(-1.691%)
2,782.49
+2.29
(+0.08%)
62,831.6300
-532.3700
(-0.840%)
GH Research PLC
  • 26.890
  • +0.720
  • (+2.751%)
  • 最高
  • 27.100
  • 最低
  • 25.470
  • 成交股數
  • 15.53萬
  • 成交金額
  • 2.98百萬
  • 前收市
  • 26.170
  • 開市
  • 26.180
  • 盤後
  • 27.290
  • 0.400
  • (+1.488%)
  • 最高
  • 27.290
  • 最低
  • 26.890
  • 成交股數
  • 4,102.00
  • 成交金額
  • 11.24萬
  • 買入
  • 25.000
  • 賣出
  • 31.470
  • 市值
  • 18.53億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 2258
  • 每宗成交金額
  • 1,318
  • 波幅
  • 14.804%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • --/-14.73
  • 周息率/預期
  • --/--
  • 10日股價變動
  • -4.713%
  • 風險率
  • 3.621
  • 振幅率
  • 4.739%
  • 啤打系數
  • 1.962

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 07/07/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

30/06/2026 21:22

美股動向 | 應材推全新3D晶片製造設備

  《經濟通通訊社30日專訊》全球半導體設備企業應用材料(US.AMAT)推出專為人工智能半導體量身打造的3D晶片製造設備產品線,進軍高頻寬記憶體、小晶片及混合鍵合等先進封裝市場。

 

  在技術層面,應材此次發布的設備矩陣專注於解決先進封裝製程中的核心問題,涵蓋平坦化、沉積與計量檢測三大關鍵環節。本次公開的全新設備包括應用於封裝領域的先進化學機械研磨、電化學沉積,以及電漿增強化學氣相沉積系統。為進一步提升良率,公司更引進了基於電子束的製程控制設備,並全面升級其動態隨機存取記憶體製程專用的磊晶設備。(kk)

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